2015年度 第1回研究会内容（参加者：研究会 148名　懇親会127名　）

　１．総会
　　日時　　：2015年4月21(火)
　　場所　　：機械振興会館　地下２　ホール
　　開催時刻：13:00～13:30

　２．研究会
　　日時　　：2015年4月21(火)
　　場所　　：機械振興会館　地下２Ｆ　ホール
　　開催時刻：13:30～17:00

　４．懇親会：　17:00～19:30
　　　　　　　　　地下3Ｆ
　　　　　　　　　ニュートーキョーホール　

５．研究会プログラム

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5.0　代表挨拶
　　　　　東海大学　工学部　光・画像工学科　　室谷教授

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5.1　『半導体露光装置用投影レンズの波面収差計測の進歩』
　　　　市原　裕　氏　(株式会社ニコン コアテクノロジー本部)

　半導体露光装置に用いられる投影レンズの発展と、その波面収差を測定する波面収差測定用干渉計の開発の歴史について述べます。

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5.2　『研磨加工の基礎』
　　　　室谷　裕志　氏　(東海大学　工学部　光・画像工学科)

　基板表面の状態は光学薄膜の品質に大きな影響を与えます。その基板表面の加工技術である研磨加工について、平面研磨を中心に研磨加工の原理と研磨表面の評価技術について解説します。

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5.3　『ARTON® フィルムによるIRカットフィルターの特性と特徴』
　　　　沼田　公志　氏　(JSR株式会社　光学材料事業部　光学材料部)

　JRSが開発した耐熱透明樹脂「ARTON®」は、優れた光学特性、耐熱性により、光学レンズ、光ﾃﾞｨｽｸ、光学フィルム等に使用されております。今般、その応用製品として、ARTON®フィルムをﾍﾞｰｽにIRカットフィルターを開発致しました。本研究会ではARTON®樹脂及びIRカットフィルターの特性、特徴について述べます。

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5.4　『ナノ表界面層の導入による銀薄膜の耐久性向上』　
　　　　川村　みどり　氏　(北見工業大学　工学部　マテリアル工学科

　厚さ数nm以下の金属層や有機分子層を銀薄膜の表面や基板との界面に導入することにより、銀薄膜加熱時の凝集制御及び高湿度環境での安定性向上等において改善が認められました。

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5.5　事務局から

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